Strukturuntersuchungen an Cr-Co-Schichten mittels Röntgenbeugung
6. Zusammenfassung
Die Struktur und magnetischen Eigenschaften gesputterter Cr-Co-Schichten wurden in Abhängigkeit
von folgenden Herstellungsparametern untersucht: Beschichtungsabstand, Spurradius, Schichtdicke,
Substrattemperatur, Bedampfungsdruck, Sputterleistung, O2-Partialdruck,
Substratdrehzahl.
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Kleine Beschichtungsabstände und Spurradien ergeben gut texturierte Schichten
und hohe Koerzitivfeldstärken. Mit größerem Beschichtungsabstand und
Spurradius nimmt die Tendenz zur Polykristallinität der Schichten zu.
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Die Temperung des Substrats kann zur Ausbildung eines Beschichtugnsringes auf der
Chromschicht führen, der eine mehr polykristalline Co-Schicht und damit
geringere HC-Werte zur Folge hat.
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Eine Erhöhung der Substrattemperatur während der Beschcihtung kann zur
Verbesserung der Textur führen.
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Eine eindeutige Abhängigkeit der Co-Schichtstruktur von der Substratdrehzahl
zeichnet sich nicht ab.
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Die Texturierung der Co-Schicht nimmt mit steigender Co-Sputterleistung bei
konstanter Cr-Sputterleistung zu und bei konstanter Co-Sputterleistung mit
wachsender Cr-Sputterleistung ab.
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Der zunehmende O2-Partialdruck bewirkt eine
Verschlechterung der Textur und der magnetischen Eigenschaften.
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Die Stufe in der Hysteresekurve spiegelt sich in der teilweise texturierten
Struktur der Schicht wieder.
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Die Struktur der untersuchten galvanisch abgeschiedenen Schichten trägt
polykristallinen Charakter. Durch Ionenzerstäubung (Sputtering) hergestellte
Schichten sind dagegen durch Optimierung der Herstellungsbedingungen in
ausgeprägter Textur und mit den gewünschten magnetischen Eigenschaften
(hohe HC-Werte, möglichst rechteckige Hysteresekurve)
zu erhalten.
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