Strukturuntersuchungen an Cr-Co-Schichten mittels Röntgenbeugung
 
6. Zusammenfassung


Die Struktur und magnetischen Eigenschaften gesputterter Cr-Co-Schichten wurden in Abhängigkeit von folgenden Herstellungsparametern untersucht: Beschichtungsabstand, Spurradius, Schichtdicke, Substrattemperatur, Bedampfungsdruck, Sputterleistung, O2-Partialdruck, Substratdrehzahl.
  1. Kleine Beschichtungsabstände und Spurradien ergeben gut texturierte Schichten und hohe Koerzitivfeldstärken. Mit größerem Beschichtungsabstand und Spurradius nimmt die Tendenz zur Polykristallinität der Schichten zu.
  2. Die Temperung des Substrats kann zur Ausbildung eines Beschichtugnsringes auf der Chromschicht führen, der eine mehr polykristalline Co-Schicht und damit geringere HC-Werte zur Folge hat.
  3. Eine Erhöhung der Substrattemperatur während der Beschcihtung kann zur Verbesserung der Textur führen.
  4. Eine eindeutige Abhängigkeit der Co-Schichtstruktur von der Substratdrehzahl zeichnet sich nicht ab.
  5. Die Texturierung der Co-Schicht nimmt mit steigender Co-Sputterleistung bei konstanter Cr-Sputterleistung zu und bei konstanter Co-Sputterleistung mit wachsender Cr-Sputterleistung ab.
  6. Der zunehmende O2-Partialdruck bewirkt eine Verschlechterung der Textur und der magnetischen Eigenschaften.
  7. Die Stufe in der Hysteresekurve spiegelt sich in der teilweise texturierten Struktur der Schicht wieder.
  8. Die Struktur der untersuchten galvanisch abgeschiedenen Schichten trägt polykristallinen Charakter. Durch Ionenzerstäubung (Sputtering) hergestellte Schichten sind dagegen durch Optimierung der Herstellungsbedingungen in ausgeprägter Textur und mit den gewünschten magnetischen Eigenschaften (hohe HC-Werte, möglichst rechteckige Hysteresekurve) zu erhalten.

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